Navigation
| Editorial Board |
| Reviewers |
| Focus and Scope |
| Publication Ethics |
| Author Guidelines |
| Peer Review Process |
| Open Access Policy |
| Copyright Notice |
| Article Processing Charge (APC) |
| Screening For Plagiarism Policy |
Jurnal ini menggunakan Open Journal Systems 3.5.0.3, yang merupakan perangkat lunak open source untuk pengelolaan dan penerbitan jurnal yang dikembangkan, didukung, dan didistribusikan secara bebas dengan lisensi GNU General Public License. Kunjungi website PKP untuk mengetahui lebih lengkap tentang software ini. Silakan hubungi jurnal secara langsung seputar pertanyaan tentang jurnal dan pengiriman naskahnya.
| Editorial Board |
| Reviewers |
| Focus and Scope |
| Publication Ethics |
| Author Guidelines |
| Peer Review Process |
| Open Access Policy |
| Copyright Notice |
| Article Processing Charge (APC) |
| Screening For Plagiarism Policy |

Jurnal Lex Technologia is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.
Published by Bifla Solusi and Fakultas Ilmu Sosial dan Hukum, Universitas Negeri Manado, North Sulawesi, Indonesia